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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造技术厂建在华东地方地方,主要是分娩85英寸半导晶圆,单日焦化废水排放标淮标淮量约800吨。基于分娩过程中 中选用许多氢佛酸对其进行晶圆蚀刻,引起焦化废水底氟化物浓硫酸浓度到达200-300mg/L,远超中国排放标淮标淮标淮(10mg/L如下)。 生产废水因素及源头 电镀废水包括来源4个节点: 晶圆蚀刻制作工序 :含高溶液浓度氟化物(HF)、硝酸钠及一少部分高价属 生物机械制造打磨(CMP)焦化废水 :含纳米技术级硅科粒、巧妙络合剂 机器设备拆洗废水处理工艺 :含异丙醇、化学需氧量等充分物 处里施工工艺流量 利用"有机化学奠定+混凝土奠定+进一步过滤程序"一级处里系统软件: 特一级补救 :添加氯化钙和氢脱色钙,出现氟化钙放置,氟化物避开率达85% 二级考试操作 :获取PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),清除固体态弄脏物 二级加工处理 :利用多媒质脱水器和生物炭物理吸附,出水出水氟化物酸度稳定性高在8mg/L以下的 根本机器还有:pH重新调整操作系统、斜管乳浊液池、板框生活污水压滤机(生活污水缺水)。 最中目的 工程项目电脑运行十年监测方案大数据屏幕上显示: 氟化物平均水平密度:7.2mg/L(最低部委标准) COD出掉率:92% 污水含水量率:≤65% 年环保再生资源量回收氟化钙副產品约150吨,完成资源量化通过

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